Технологический прорыв ценой миллиардов: как High-NA EUV изменит правила игры на полупроводниковом рынке

Финансовый директор Intel Дэвид Зинснер сообщил, что компания планирует использовать более дорогостоящее литографическое оборудование High-NA EUV для производства чипов по техпроцессу Intel 14A. Этот шаг приведёт к значительному росту затрат, и для их компенсации Intel будет активно искать внешних клиентов.

Новая производственная стратегия

Изначально предполагалось, что оборудование High-NA EUV будет применяться уже на техпроцессе 18A, но по факту его полноценное внедрение отложили до 14A.

Новый техпроцесс должен обеспечить улучшение соотношения производительности и энергопотребления на 15-20% по сравнению с 18A. Также он позволит снизить энергопотребление на 25-35%.

В рамках 14A будет использоваться структура транзисторов с окружающим затвором RibbonFET второго поколения, а также внедрена технология подачи питания с обратной стороны кремниевой пластины и "турбо-ячейки".

Один сканер High-NA EUV (TwinScan EXE:5200) будет стоить более $380 млн, тогда как стоимость актуального поколения (TwinScan NXE:3800E) составляет до $325 млн.

Финансовые вызовы

Дэвид Зинснер отметил, что техпроцесс 14A будет дороже, чем 18A, в основном из-за высокой стоимости кремниевых пластин и использования оборудования High-NA EUV.

Для окупаемости инвестиций, несмотря на то что Intel останется крупным клиентом своего производственного подразделения, компании потребуется привлечь значительное количество сторонних заказов.