Российский литографический сканер на 193 нанометра готовится изменить рынок микрочипов за два года

В ближайшие два года Россия может представить собственный литографический сканер с длиной волны 193 нанометра, который станет важным этапом в развитии отечественной микроэлектроники. Об этом рассказал президент Российской академии наук Геннадий Красников в интервью ТАСС. По его словам, российские специалисты уже достигли значительных успехов в создании литографического оборудования: в прошлом году был получен сканер совместно с Белоруссией, работающий на длине волны 350 нанометров, а в настоящее время испытывается устройство с длиной волны 248 нанометров.

Красников отметил, что сейчас ведутся активные работы над новым сканером, который будет функционировать на длине волны 193 нанометра. Такая длина волны является особенно перспективной, так как именно на её основе создаются современные микросхемы с технологическим нормам 90 нанометров и ниже, включая ультрасовременные пятинанометровые чипы. Президент РАН выразил уверенность, что российский литографический сканер на 193 нанометра появится примерно через два года, что позволит России значительно повысить уровень собственных производственных возможностей в сфере микроэлектроники.

Литографический сканер — это ключевое устройство для производства микросхем, которое применяется для нанесения микроизображений на кремниевые пластины с высочайшей точностью. В мировом масштабе подобное оборудование выпускают лишь несколько крупных компаний, среди которых лидирует голландская ASML, а также японские Canon и Nikon. Создание аналога подобного уровня в России является амбициозной задачей, учитывая сложность и технологическую насыщенность данного сегмента рынка.

Хотя микросхемы, производимые с использованием оборудования на длине волны 350 нанометров, считаются сегодня менее продвинутыми с технологической точки зрения, они по-прежнему широко применяются во многих отраслях. В частности, такие чипы востребованы в автомобильной промышленности, энергетике и телекоммуникациях, что подтверждает важность продолжающегося совершенствования литографического оборудования.

Появление российского сканера с длиной волны 193 нанометра позволит существенно расширить возможности отечественных производителей, снизить зависимость от иностранных технологий и открыть новые перспективы для высокотехнологичных отраслей экономики. Этот шаг также отвечает стратегическим задачам страны по развитию собственной микроэлектронной базы и укреплению позиций на мировом рынке полупроводниковых технологий.

Эксперты подчеркивают, что создание и внедрение таких систем требует не только высокой научной экспертизы, но и значительных ресурсов, что делает этот проект одним из наиболее значимых в современной российской науке и промышленности. Успешная реализация проекта может стать важным прорывом для российской электроники и технологического суверенитета.