Российская литография осваивает 193-нм

Глава Российской академии наук Геннадий Красников сообщил о планах создания в России литографических сканеров с длиной волны 193 нм для производства передовых микрочипов в течение примерно двух лет. Он уточнил, что в основе этих установок будут классические эксимерные газовые лазеры, а не твердотельные источники света, которые пока не достигают необходимых показателей мощности.

Ранее российским и белорусским учёным удалось разработать сканеры с длиной волны 350 нм, где вместо устаревших ртутных ламп применили компактные и энергоэффективные полупроводниковые лазеры. Несмотря на ожидания, следующий шаг к более коротким волнам решили сделать традиционным путём: сейчас ведутся испытания эксимерных установок на 248 нм и готовятся к внедрению оборудования с классическим газовым лазером 193 нм.

По словам Красникова, использование смесей благородных газов в эксимерных лазерах хоть и уступает по компактности и простоте твердотельным аналогам, однако обеспечивает гораздо более высокую мощность излучения. Это свойство критично для обеспечения необходимой производительности современных литографических станков.

Появление 193-нм сканеров станет важным этапом: такие системы останутся актуальными для изготовления микросхем по нормам до 5 нм, поскольку отрасль приближается к физическим пределам уменьшения технологических размеров. Простота и надёжность газовых эксимерных лазеров, проверенная мировыми производителями, подтверждает правильность выбранного пути.