Лазерная система с ультрафиолетовым излучением — новый этап в производстве микросхем в России

В Новосибирске специалисты создали уникальную импортозамещающую лазерную систему для производства фотошаблонов при изготовлении микросхем.

Эта разработка не имеет аналогов в России и позволяет заменить импортное оборудование, широко используемое в микроэлектронике.

Новая система использует ультрафиолетовое излучение с длиной волны 257 нанометров, что обеспечивает высокую точность и качество нанесения рисунка на кремниевую пластину. В условиях санкционных ограничений и необходимости развития отечественной микроэлектроники создание таких технологий становится особенно актуальным.

Производство современных микросхем требует использования фотошаблонов высокого разрешения, которые создаются с помощью лазерной литографии — метода нанесения изображения на поверхность с помощью сфокусированного лазерного луча.

В большинстве случаев для этого применяются импортные лазеры американской компании Coherent, однако новая российская разработка полностью заменяет их, что значительно снижает зависимость от иностранных поставщиков.

Программно-аппаратный комплекс включает в себя лазер с мощностью 10-30 милливатт и волоконный усилитель, увеличивающий мощность до 15 ватт. Такой уровень энергии позволяет наносить точные рисунки на тонкую пластину материала, что критически важно для производства современных микросхем с высоким разрешением.

Созданная система не только обеспечивает качество и точность изготовления фотошаблонов, но и способствует развитию отечественной микроэлектронной промышленности, снижая зависимость от импортных технологий и оборудования. Это важный шаг к укреплению технологической независимости России в области высокотехнологичных производств.